الكاتب: 

احمد سعيد كاجاليك
كلية الهندسة صبراتة, جامعة الزاوية, الزاوية - ليبيا 
البريد الالكتروني: عنوان البريد الإلكتروني هذا محمي من روبوتات السبام. يجب عليك تفعيل الجافاسكربت لرؤيته. 

الملخص: 

في هذا البحث تم تطبيق تقنية التنميش الجاف لطبقة سيليكات الفوسفور الزجاجية (PSG)، كطريقة بديلة لتقنية التنميش باستخدام الطرق الكيميائية التقليدية، عبر استخدام مخلوط غازي يتكون من غازي ثلاثي فلور الميثان / سادس فلوريد الكبريت (CHF3/SF6) لتتم هذه العملية داخل نظام تجاري يعرف بجهاز أو فرن ترسيب الأبخرة الكيميائية المعززة باستخدام تقنيات بلازما نيترات السيليكون (SiN-PECVD).
وفي هذا العمل تم بحث مدى اعتمادية أداء الخلية الشمسية على درجة حرارة التنميش داخل الفرن ليتم بالتالي الاختيار الأمثل لدرجة حرارة الفرن التي تعطي أفضل الأداء. وفي هذا السياق وجد أن التغير في درجة حرارة الفرن له تأثير هام وواضح على كافة معلميات الخلية الشمسية.
وبعد الانتهاء من عملية التنميش الجاف لطبقة سيليكات الفوسفور الزجاجية فقد تم بحث وتطوير عملية لاحقة ضمن مراحل تصنيع الخلية الشمسية السيليكونية والتي تتمثل مباشرة في عملية المعالجة والتنظيف السطحي للخلية باستخدام تقنية البلازما. فعملية المعالجة السطحية للخلية الشمسية تستخدم لتحويل أو إزالة طبقة البوليمر التي تترسب على سطح الخلية أثناء مرحلة إزالة طبقة سيليكات الفوسفور الزجاجية. وفي هذا السياق استخدم لهذا الغرض غازا الأكسجين والهيدروجين لنجد أنه بعد تطبيق هذه المرحلة فإن طبقة البوليمر قد تم ازالتها أو تقليلها إلى الحد الأدنى. وقد تم بحث مدى تأثر أداء الخلية الشمسية بظروف عملية التنظيف البلازمية، حيث وجد أنه بعد أن تم الاختيار الأمثل لمعلميات البلازما من درجة حرارة وضغط وزمن التنظيف داخل الفرن لوحظ التحسن الواضح في أداء الخلية وخاصة من حيث الزيادة والكسب الحاصل في كفاءة الخلية الشمسية والتي تصل إلى نسبة زيادة تقدر بحوالي 6.0 % مقارنة مع كفاءة الخلية عند عدم تطبيق هذه المرحلة من التصنيع. ومن ناحية أخرى فقد وجد أن خصائص الخلية الشمسية بعد إجراء أو تطبيق هذه التقنية يمكن أن تصل إلى نفس أداء وخصائص الخلية الشمسية التي يتم تصنيعها بالطرق التقليدية التي تتمثل في إزالة طبقة سيليكات الفوسفور الزجاجية باستخدام الطرق الكيميائية التقليدية (الغطس في محلول حامض الهيدروفلوريك المخفف) وهو ما يبرهن على مدى جدوى وفعالية المعالجة الجافة لتنظيف سطح الخلية الشمسية باستخدام غازي الأكسجين والهيدروجين وبتقنية البلازما وخاصة إذا ما أخد العامل البيئي في الاعتبار.

الكلمات الاستدلالية: 

Solar Cells, crystalline silicon, PSG, Plasma etching

تحميل الورقة: 

"التنميش الجاف لطبقة سيليكات الفوسفور الزجاجية والتهيئة والتنظيف السطحي اللاحق للخلية الشمسية السيليكونية المتعددة التبلر أثناء مرحلة التصنيع"